目前常用的PVD有三种:真空蒸发、溅射和离子镀;它们的工作原理如下:1 .真空镀膜:材料在适当的压力下被电子束等热源加热蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层;
2.溅射镀膜:是一种没有蒸发技术的物理气相沉积方法。镀膜时,将工作室抽真空,通入氩气作为工作气体,压力保持在0.13-1.33 Pa;
3.离子镀:在真空条件下,通过气体放电使气体或蒸发物质电离,在气体离子或蒸发物质离子的轰击下,在工件上蒸发出蒸发物质或其他反应物。
目前常用的PVD有三种:真空蒸发、溅射和离子镀;它们的工作原理如下:1 .真空镀膜:材料在适当的压力下被电子束等热源加热蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层;
2.溅射镀膜:是一种没有蒸发技术的物理气相沉积方法。镀膜时,将工作室抽真空,通入氩气作为工作气体,压力保持在0.13-1.33 Pa;
3.离子镀:在真空条件下,通过气体放电使气体或蒸发物质电离,在气体离子或蒸发物质离子的轰击下,在工件上蒸发出蒸发物质或其他反应物。